মহাকাশ এবং পারমাণবিক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য Hastelloy X কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেটের জন্য কোন গুণমান নিয়ন্ত্রণ এবং শংসাপত্রের প্রয়োজনীয়তা প্রযোজ্য?

1. Hastelloy X (UNS N06002) কি এবং গরম-ঘূর্ণিত প্লেটের তুলনায় কোল্ড রোলিং এর বৈশিষ্ট্যগুলিকে কীভাবে প্রভাবিত করে?

Hastelloy X (UNS N06002) হল একটি নিকেল-ক্রোমিয়াম-লোহা-মলিবডেনাম খাদ যা তার ব্যতিক্রমী উচ্চ-তাপমাত্রার শক্তি, অক্সিডেশন প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং তৈরি করার জন্য বিখ্যাত। এটি মহাকাশ, শিল্প চুল্লি এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় যেখানে উপাদানগুলিকে অবশ্যই চরম তাপমাত্রা এবং ক্ষয়কারী পরিবেশ সহ্য করতে হবে।

রাসায়নিক গঠন (সাধারণ):

মূল বৈশিষ্ট্য:

উচ্চ-তাপমাত্রার শক্তি: ব্যতিক্রমী হামাগুড়ি এবং চাপ-2200 ডিগ্রি ফারেনহাইট (1200 ডিগ্রি) পর্যন্ত ফেটে যাওয়ার শক্তি।

অক্সিডেশন প্রতিরোধ: উন্নত তাপমাত্রায় জারণ এবং কার্বারাইজেশনের দুর্দান্ত প্রতিরোধ।

ফ্যাব্রিকেবিলিটি: অনেক উচ্চ-তাপমাত্রার ধাতুর তুলনায় ভাল গঠনযোগ্যতা এবং ঢালাইযোগ্যতা।

পর্যায় স্থিতিশীলতা: দীর্ঘস্থায়ী উচ্চ -তাপমাত্রার এক্সপোজারের সময় ক্ষতিকারক আন্তঃধাতু পর্যায়গুলির গঠন প্রতিরোধ করে।

হট-ঘূর্ণিত বনাম ঠান্ডা-ঘূর্ণিত প্লেট:

কোল্ড রোলিং এর প্রভাব:

ওয়ার্ক হার্ডেনিং: কোল্ড রোলিং নমনীয়তা হ্রাস করার সময় শক্তি এবং কঠোরতা বাড়ায়।

পৃষ্ঠের উন্নতি: ভাল চেহারা এবং পরিচ্ছন্নতার সাথে মসৃণ, আরও অভিন্ন পৃষ্ঠ উত্পাদন করে।

বেধ নিয়ন্ত্রণ: গরম ঘূর্ণায়মান তুলনায় শক্ত বেধ সহনশীলতা অর্জন করে।

শস্য পরিশোধন: কোল্ড রোলিংয়ের পরে পরবর্তী অ্যানিলিং সূক্ষ্ম, আরও অভিন্ন শস্য কাঠামো তৈরি করতে পারে।

গঠনযোগ্যতা: কোল্ড-অ্যানিল অবস্থায় ঘূর্ণিত প্লেট জটিল আকারের জন্য চমৎকার গঠনযোগ্যতা প্রদান করে।

সাধারণ যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য (অ্যানিলেড কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেট):

---

2. মহাকাশ, শিল্প চুল্লি এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ শিল্পে হ্যাস্টেলয় এক্স কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেটের প্রাথমিক প্রয়োগগুলি কী কী?

হ্যাস্টেলয় এক্স কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেট উচ্চ-তাপমাত্রার শক্তি, অক্সিডেশন প্রতিরোধের, এবং ফ্যাব্রিকেবিলিটি প্রয়োজন এমন অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে গুরুত্বপূর্ণ কাজ করে। এর বৈশিষ্ট্যগুলির সংমিশ্রণ এটিকে বেশ কয়েকটি চাহিদাপূর্ণ শিল্পে অপরিহার্য করে তোলে।

মহাকাশ অ্যাপ্লিকেশন:

দহন চেম্বার:

ফাংশন: গ্যাস টারবাইন ইঞ্জিনের লাইনার উপাদান যেখানে শিখার তাপমাত্রা 2000 ডিগ্রি ফারেনহাইট অতিক্রম করে।

কেন Hastelloy X: ব্যতিক্রমী উচ্চ-তাপমাত্রা শক্তি; তাপ ক্লান্তি এবং অক্সিডেশন প্রতিরোধ করে।

সাধারণ উপাদান: কম্বুস্টার লাইনার, ট্রানজিশন ডাক্ট, স্প্রে বার।

আফটারবার্নার উপাদান:

ফাংশন: জেট ইঞ্জিন নিষ্কাশন সিস্টেমের অংশগুলি চরম তাপমাত্রা এবং তাপ সাইক্লিং এর সংস্পর্শে আসে।

কেন Hastelloy X: অপারেটিং তাপমাত্রায় শক্তি বজায় রাখে; জটিল বানান জন্য ঝালাইযোগ্য.

নিষ্কাশন সিস্টেম:

ফাংশন: Tailpipes, নিষ্কাশন শঙ্কু, এবং অগ্রভাগ.

কেন Hastelloy X: অক্সিডেশন প্রতিরোধের; তাপ স্থিতিশীলতা; জটিল আকারের জন্য ভাল গঠনযোগ্যতা।

তাপ ঢাল:

ফাংশন: তেজস্ক্রিয় এবং পরিবাহী তাপ থেকে সংবেদনশীল উপাদানগুলিকে রক্ষা করুন।

কেন Hastelloy X: তাপ প্রতিফলিত করে; তাপমাত্রায় অখণ্ডতা বজায় রাখে।

শিল্প চুল্লি অ্যাপ্লিকেশন:

Muffles এবং Retorts:

ফাংশন: তাপ চিকিত্সা চুল্লি, brazing চুল্লি জন্য ঘের.

কেন Hastelloy X: বারবার থার্মাল সাইক্লিং সহ্য করে; জারণ এবং কার্বারাইজেশন প্রতিরোধ করে।

তাপমাত্রা পরিসীমা: 2200 ডিগ্রি ফারেনহাইট পর্যন্ত ক্রমাগত অপারেশন।

দীপ্তিমান টিউব:

ফাংশন: চুল্লিগুলিতে পরোক্ষ গরম করার উপাদান।

কেন Hastelloy X: উচ্চ-তাপমাত্রা শক্তি ঝুলে যাওয়া প্রতিরোধ করে; অক্সিডেশন প্রতিরোধের জীবন প্রসারিত.

পরিবাহক বেল্ট এবং ফিক্সচার:

ফাংশন: ক্রমাগত চুল্লি মাধ্যমে সমর্থন অংশ.

কেন Hastelloy X: তাপমাত্রায় শক্তি বজায় রাখে; হামাগুড়ি প্রতিরোধ করে।

হিট এক্সচেঞ্জার:

ফাংশন: Recuperators, বর্জ্য তাপ পুনরুদ্ধার সিস্টেম.

কেন Hastelloy X: উচ্চ-তাপমাত্রা শক্তি; দহন পণ্য জারা প্রতিরোধের.

রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ অ্যাপ্লিকেশন:

সংস্কারক উপাদান:

ফাংশন: বাষ্প মিথেন সংস্কারক, হাইড্রোজেন উদ্ভিদ।

কেন Hastelloy X: উচ্চ তাপমাত্রায় কার্বারাইজেশন এবং অক্সিডেশন প্রতিরোধ করে।

থার্মাল অক্সিডাইজার:

ফাংশন: উচ্চ তাপমাত্রায় উদ্বায়ী জৈব যৌগ (VOCs) ধ্বংস।

কেন Hastelloy X: দহন পরিবেশ সহ্য করে; ক্ষয়কারী উপজাত প্রতিরোধ করে।

অনুঘটক সমর্থন গ্রিড:

ফাংশন: উচ্চ-তাপমাত্রার চুল্লিতে অনুঘটক বিছানা সমর্থন করে।

কেন Hastelloy X: শক্তি বজায় রাখে; প্রক্রিয়া জারা প্রতিরোধ করে।

উচ্চ-তাপমাত্রা নালী:

ফাংশন: গরম প্রক্রিয়া গ্যাস স্থানান্তর.

কেন Hastelloy X: অক্সিডেশন প্রতিরোধের; বড় নালী জন্য fabricability.

বিশেষায়িত অ্যাপ্লিকেশন:

---

3. Hastelloy X ঠান্ডা-ঘূর্ণিত প্লেটের অক্সিডেশন এবং কার্বারাইজেশন প্রতিরোধের অন্যান্য উচ্চ-তাপমাত্রার সংকর ধাতুগুলির সাথে কীভাবে তুলনা করা হয়?

উত্তরঃ
উচ্চ তাপমাত্রায় Hastelloy X-এর ব্যতিক্রমী কর্মক্ষমতা এর সুষম রসায়ন থেকে উদ্ভূত হয়, যা অক্সিডেশন, কার্বুরাইজেশন, এবং উচ্চ-তাপমাত্রার ক্ষয়ের অন্যান্য প্রকারের উচ্চতর প্রতিরোধ প্রদান করে।

অক্সিডেশন প্রতিরোধের:

প্রক্রিয়া:

ক্রোমিয়াম (20.5-23%) পৃষ্ঠে একটি প্রতিরক্ষামূলক Cr₂O₃ (ক্রোমিয়া) স্কেল গঠন করে।

এই স্কেলটি ঘন, অনুগামী এবং ধীরে-বর্ধমান, দীর্ঘ-সুরক্ষা প্রদান করে।

ক্ষতিগ্রস্থ হলে স্কেল দ্রুত পুনরুদ্ধার করে (স্প্যালড, ফাটল)।

কর্মক্ষমতা তুলনা:

অক্সিডেশন হার ডেটা (সাধারণ):

1800 ডিগ্রী ফারেনহাইট (980 ডিগ্রী): 0.5-1.0 মিমি/বছর ধাতু ক্ষতি।

2000 ডিগ্রী ফারেনহাইট (1095 ডিগ্রী): 1.0-2.0 মিমি/বছর ধাতু ক্ষতি।

2200 ডিগ্রী ফারেনহাইট (1200 ডিগ্রী): 2.0-4.0 মিমি/বছর ধাতু ক্ষতি।

কার্বারাইজেশন প্রতিরোধ:

প্রক্রিয়া:

কার্বন-সমৃদ্ধ পরিবেশে (মিথেন, CO, হাইড্রোকার্বন), কার্বন মিশ্র ধাতুতে ছড়িয়ে পড়তে পারে।

কার্বন ক্রোমিয়াম কার্বাইড গঠন করে, কঠিন দ্রবণ থেকে ক্রোমিয়ামকে ক্ষয় করে এবং উপাদানকে বিকৃত করে।

Hastelloy X-এ উচ্চ ক্রোমিয়াম এবং নিকেল সামগ্রী কার্বনের বিস্তারকে ধীর করে দেয়।

কর্মক্ষমতা তুলনা:

কার্বারাইজেশন টেস্টিং:

ASTM G79 (প্যাক কার্বারাইজেশন): কার্বন পিকআপ এবং কেসের গভীরতা পরিমাপ করে।

Hastelloy X সাধারণত স্টেইনলেস স্টিলের তুলনায় কম কার্বন পিকআপ দেখায়।

সালফিডেশন প্রতিরোধের:

প্রক্রিয়া:

সালফার-যুক্ত পরিবেশে (H₂S, SO₂), সালফার প্রতিরক্ষামূলক অক্সাইড স্কেলে আক্রমণ করতে পারে।

ধাতব সালফাইড তৈরি করে, যা অ-প্রতিরক্ষামূলক এবং ক্ষয়কে ত্বরান্বিত করে।

কর্মক্ষমতা:

কম সালফার পরিবেশে ভালো প্রতিরোধ ক্ষমতা-

গুরুতর সালফিডেশনের জন্য, উচ্চতর ক্রোমিয়াম ধাতুগুলি বিবেচনা করুন (যেমন, 625, 230)।

নাইট্রাইডিং প্রতিরোধ:

উচ্চ তাপমাত্রায় অ্যামোনিয়া বা নাইট্রোজেন সমৃদ্ধ পরিবেশে- নাইট্রোজেন ছড়িয়ে পড়তে পারে এবং নাইট্রাইড তৈরি করতে পারে।

স্থিতিশীল অক্সাইড স্কেলের কারণে Hastelloy X এর ভাল প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে।

উচ্চ-তাপমাত্রা পরিষেবার জন্য ডিজাইন বিবেচনা:

---

4. Hastelloy X কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেট, বিশেষ করে মহাকাশ এবং উচ্চ-তাপমাত্রার অ্যাপ্লিকেশনের জন্য কোন ঢালাই এবং তৈরির বিবেচনাগুলি অনন্য?

Hastelloy X কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেট তৈরি করতে এর অনন্য ধাতুবিদ্যার বৈশিষ্ট্য এবং উচ্চ-তাপমাত্রা পরিষেবার কঠোর প্রয়োজনীয়তা বোঝা প্রয়োজন, বিশেষ করে মহাকাশ অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে।

ঢালাই প্রক্রিয়া:

গ্যাস টংস্টেন আর্ক ওয়েল্ডিং (GTAW/TIG):

পাতলা বিভাগ, নির্ভুল কাজ জন্য পছন্দ.

ম্যাচিং ফিলার মেটাল ব্যবহার করুন (ERNiCrMo-2 প্রতি AWS A5.14)।

আর্গন শিল্ডিং সহ DCEN (ইলেক্ট্রোড নেগেটিভ)।

গ্যাস মেটাল আর্ক ওয়েল্ডিং (GMAW/MIG):

পুরু বিভাগের জন্য উপযুক্ত।

সর্বোত্তম নিয়ন্ত্রণের জন্য স্পন্দিত স্প্রে স্থানান্তর ব্যবহার করুন।

শিল্ডেড মেটাল আর্ক ওয়েল্ডিং (SMAW):

সীমিত ব্যবহার; মিলিত প্রলিপ্ত ইলেক্ট্রোড প্রয়োজন।

প্লাজমা আর্ক ওয়েল্ডিং (PAW):

পাতলা বিভাগের উচ্চ গতির ঢালাই।

ইলেক্ট্রন বিম (EB) এবং লেজার ওয়েল্ডিং:

গভীর অনুপ্রবেশ, সংকীর্ণ HAZ; মহাকাশে ব্যবহৃত হয়।

ফিলার মেটাল নির্বাচন:

ঢালাই পরামিতি এবং কৌশল:

পরিচ্ছন্নতা:

পুঙ্খানুপুঙ্খভাবে পরিষ্কার প্লেট পৃষ্ঠ (তেল, গ্রীস, অক্সাইড অপসারণ)।

Hastelloy X এর জন্য নিবেদিত স্টেইনলেস স্টিলের তারের ব্রাশ ব্যবহার করুন।

যৌথ নকশা:

স্ট্যান্ডার্ড বাট, ল্যাপ, বা কোণার জয়েন্টগুলি প্রতি AWS।

সঠিক ফিট-আপ নিশ্চিত করুন; ফাঁক-এর মাধ্যমে জ্বলতে পারে।

শিল্ডিং গ্যাস:

প্রাথমিক: আর্গন (বিশুদ্ধ) বা আর্গন + 2-5% হাইড্রোজেন (অটোজেনাস ওয়েল্ডিংয়ের জন্য)।

রুট অক্সিডেশন প্রতিরোধের জন্য ব্যাক purging প্রয়োজন.

তাপ ইনপুট নিয়ন্ত্রণ:

মাঝারি তাপ ইনপুট; অতিরিক্ত পরিহার করুন।

ইন্টারপাস তাপমাত্রা 300 ডিগ্রি ফারেনহাইট (150 ডিগ্রি) এর চেয়ে কম বা সমান।

স্ট্রিংগার পুঁতি কৌশল; বয়ন কম করুন।

পোস্ট-ওয়েল্ড হিট ট্রিটমেন্ট (PWHT):

Hastelloy X এর জন্য সাধারণত প্রয়োজন হয় না।

অত্যন্ত চাপযুক্ত মহাকাশ উপাদানগুলির জন্য, দ্রবণ অ্যানিল নির্দিষ্ট করা যেতে পারে (2150 ডিগ্রি ফারেনহাইট, দ্রুত নিভে যাওয়া)।

গঠন কার্যক্রম:

ঠান্ডা গঠন:

annealed শর্ত প্রয়োজন.

ভাল নমনীয়তা নমন, ঘূর্ণায়মান, গভীর অঙ্কন অনুমতি দেয়।

কাজ শক্ত হয়ে যায়; গুরুতর গঠনের জন্য মধ্যবর্তী অ্যানিলিং প্রয়োজন হতে পারে।

গরম গঠন:

তাপমাত্রা: 1850 ডিগ্রি ফারেনহাইট - 2150 ডিগ্রি ফারেনহাইট (1010 ডিগ্রি - 1175 ডিগ্রি)।

ফর্ম recrystallization তাপমাত্রা উপরে.

অ্যানিলিং তাপমাত্রার নিচে সঞ্চালিত হলে গঠনের পরে সমাধান অ্যানিল।

তাপ চিকিত্সা:

সমাধান অ্যানিলিং:

তাপমাত্রা: 2150 ডিগ্রি ফারেনহাইট (1175 ডিগ্রি) ±25 ডিগ্রি ফারেনহাইট।

সময়: 30-60 মিনিট প্রতি ইঞ্চি পুরুত্ব (ন্যূনতম 15 মিনিট)।

কুলিং: দ্রুত নিভিয়ে ফেলা (জল বা দ্রুত গ্যাস ঠান্ডা)।

উদ্দেশ্য: কার্বাইড দ্রবীভূত করুন, নমনীয়তা পুনরুদ্ধার করুন, বৈশিষ্ট্যগুলি অপ্টিমাইজ করুন।

মানসিক চাপ উপশম:

সাধারণত প্রয়োজন হয় না; যদি প্রয়োজন হয়, ধীর শীতল সহ 1600 ডিগ্রি F-1800 ডিগ্রি ফারেনহাইট।

যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য প্রভাবিত করতে পারে; স্পেসিফিকেশনের সাথে পরামর্শ করুন।

মহাকাশ নির্মাণের জন্য মান নিয়ন্ত্রণ:

সাধারণ ত্রুটি এবং প্রতিরোধ:

---

5. মহাকাশ এবং পারমাণবিক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য Hastelloy X কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেটের জন্য কী গুণমান নিয়ন্ত্রণ এবং শংসাপত্রের প্রয়োজনীয়তা প্রযোজ্য?

মহাকাশ এবং পারমাণবিক শক্তির মতো জটিল অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য Hastelloy X কোল্ড-ঘূর্ণিত প্লেটের জন্য কঠোর মান নিয়ন্ত্রণ এবং শংসাপত্র প্রয়োজন, বাণিজ্যিক মানগুলির বাইরে। এই প্রয়োজনীয়তাগুলি উপাদানের অখণ্ডতা, সন্ধানযোগ্যতা এবং কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে।

গভর্নিং স্পেসিফিকেশন:

উপাদান সার্টিফিকেশন প্রয়োজনীয়তা:

মিল টেস্ট রিপোর্ট (MTR):

তাপ প্রতি প্রত্যয়িত রাসায়নিক বিশ্লেষণ.

যান্ত্রিক সম্পত্তি যাচাইকরণ (টেনসিল, ফলন, প্রসারণ)।

তাপ চিকিত্সা শংসাপত্র (তাপমাত্রা, সময়, নিভানোর পদ্ধতি)।

গলে যাওয়া থেকে সমাপ্ত পণ্যের সন্ধানযোগ্যতা।

তাপের সন্ধানযোগ্যতা:

প্রতিটি প্লেট তাপ নম্বর দিয়ে চিহ্নিত।

নির্দিষ্ট তাপের জন্য প্লেটের ম্যাপিং বজায় রাখা হয়।

ইতিবাচক উপাদান সনাক্তকরণ (PMI):

প্রায়ই সমালোচনামূলক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য প্রয়োজন.

প্রকাশের আগে প্রতিটি প্লেটে গ্রেড যাচাই করুন।

রাসায়নিক গঠন নিয়ন্ত্রণ:

যান্ত্রিক সম্পত্তি যাচাই:

ঘরের তাপমাত্রা প্রসার্য:

প্রতিটি লটে সঞ্চালিত (তাপ + তাপ চিকিত্সা অবস্থা)।

ন্যূনতম প্রতি AMS 5536: UTS 100 ksi, YS 40 ksi, Elong 35%।

উন্নত তাপমাত্রা প্রসার্য:

প্রায়ই মহাকাশ অ্যাপ্লিকেশনের জন্য প্রয়োজন.

সাধারণ পরীক্ষার তাপমাত্রা: 1200 ডিগ্রি ফারেনহাইট, 1600 ডিগ্রি ফারেনহাইট, 1800 ডিগ্রি ফারেনহাইট।

স্ট্রেস ফাটা পরীক্ষা:

দীর্ঘ-মেয়াদী উচ্চ-তাপমাত্রা শক্তি যাচাই করুন।

উদাহরণ: 25 ksi এ 1200 ডিগ্রী ফারেনহাইট, ন্যূনতম জীবন 100 ঘন্টা।

ক্রীপ টেস্টিং:

ASME সেকশন III প্রতি পারমাণবিক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য।

নন-ধ্বংসাত্মক পরীক্ষা (NDE):

আল্ট্রাসনিক টেস্টিং (UT) প্রতি ASTM A578:

প্রয়োগ: নির্দিষ্ট বেধের উপর প্লেট (সাধারণত 1/2" এর চেয়ে বড় বা সমান)।

স্তর: সমালোচনামূলক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য প্রায়শই লেভেল B (সবচেয়ে কঠোর)।

লক্ষ্যযুক্ত ত্রুটিগুলি: অভ্যন্তরীণ ল্যামিনেশন, অন্তর্ভুক্তি, শূন্যতা।

ASTM E165 প্রতি লিকুইড পেনিট্রান্ট টেস্টিং (PT):

অ্যাপ্লিকেশন: প্রান্ত পৃষ্ঠতল, অ্যাক্সেসযোগ্য পৃষ্ঠতল.

ত্রুটিগুলি লক্ষ্য করা হয়েছে: পৃষ্ঠের ফাটল, ল্যাপস, সিম।

রেডিওগ্রাফিক টেস্টিং (RT):

আবেদন: ঢালাই fabrications, ঢালাই.

গ্রহণযোগ্যতা: গ্রাহক স্পেসিফিকেশন প্রতি.

এডি কারেন্ট টেস্টিং (ET):

আবেদন: পাতলা শীট, পৃষ্ঠ পরিদর্শন.

মাত্রিক পরিদর্শন:

বেধ:

প্রতি ASTM B435 সহনশীলতা; নির্ভুলতা অ্যাপ্লিকেশনের জন্য কঠোর.

প্লেট প্রতি একাধিক পরিমাপ.

সমতলতা:

লেজার কাটিং বা নির্ভুলতা তৈরিতে ব্যবহৃত প্লেটের জন্য গুরুত্বপূর্ণ।

বিশেষ সমতলতা প্রয়োজনীয়তা প্রযোজ্য হতে পারে.

সারফেস ফিনিশ:

কোল্ড-ঘূর্ণিত ফিনিশ সাধারণত 2B বা তার চেয়ে ভালো।

ত্রুটি: কোন স্ক্র্যাচ, গর্ত, স্কেলে ঘূর্ণিত-না।

পারমাণবিক প্রয়োগের জন্য বিশেষ পরীক্ষা:

ইন্টারগ্রানুলার জারা পরীক্ষা:

প্রতি ASTM G28 (যদি প্রয়োজন হয়)।

সংবেদনশীলতা থেকে স্বাধীনতা যাচাই করুন।

শস্যের আকার নির্ধারণ:

প্রতি ASTM E112।

সাধারণত ASTM 4-7 প্রয়োজন।

অন্তর্ভুক্তি রেটিং:

প্রতি ASTM E45।

অন্তর্ভুক্তির ধরন এবং আকারের সীমাবদ্ধতা।

বিকিরণ এক্সপোজার রেকর্ড:

নিরাপত্তার জন্য-গুরুত্বপূর্ণ অ্যাপ্লিকেশন।

ডকুমেন্টেশন প্যাকেজ:

AMS 5536 এর জন্য চিহ্নিতকরণের প্রয়োজনীয়তা:

এএমএস 5536

আকার (বেধ × প্রস্থ × দৈর্ঘ্য)

তাপ সংখ্যা

প্রস্তুতকারকের নাম বা ট্রেডমার্ক

উৎপত্তি দেশ

মহাকাশ-নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা:

প্রথম প্রবন্ধ পরিদর্শন (FAI): নতুন পণ্যের জন্য প্রতি AS9102।

সরবরাহকারীর গুণমানের প্রয়োজনীয়তা: প্রায়শই গ্রাহক-নির্দিষ্ট।

জাল প্রতিরোধ: খাঁটি উপাদান যাচাই.

শেলফ লাইফ: সাধারণত কোনটিই নয়, তবে স্টোরেজ শর্ত নির্দিষ্ট করা আছে।

স্টোরেজ এবং হ্যান্ডলিং:

পরিষ্কার, শুষ্ক পরিবেশে সংরক্ষণ করুন।

যান্ত্রিক ক্ষতি থেকে রক্ষা করুন।

প্রয়োগ করা হলে প্রতিরক্ষামূলক আবরণ বজায় রাখুন।

দূষণ রোধ করতে কার্বন ইস্পাত থেকে আলাদা করুন।