1। হটেলয় সি 2000 প্লেটটি এর খাদ রচনার ক্ষেত্রে রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জামের জন্য উপযুক্ত করে তোলে কী?
হেসটেলয় সি 2000 প্লেটের মিশ্র রচনাটি রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলির জন্য উপযুক্ততার মূল চাবিকাঠি। নিকেল, বেস উপাদান হিসাবে, একটি স্থিতিশীল কাঠামো এবং সহজাত জারা প্রতিরোধের সরবরাহ করে, রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণে বিভিন্ন এবং আক্রমণাত্মক রাসায়নিক পরিবেশ পরিচালনা করতে প্লেটকে সক্ষম করে।
ক্রোমিয়াম, 22 - 24% পরিসরে, প্লেটের পৃষ্ঠের উপর একটি প্রতিরক্ষামূলক অক্সাইড স্তর তৈরি করে। এই স্তরটি নাইট্রিক অ্যাসিড এবং ক্লোরিনের মতো অক্সাইডাইজিং এজেন্টগুলির বিরুদ্ধে বাধা হিসাবে কাজ করে, যা সাধারণত রাসায়নিক প্রক্রিয়াতে ব্যবহৃত হয়। এটি অন্তর্নিহিত ধাতুটিকে অক্সিডাইজড এবং জঞ্জাল হতে বাধা দেয়।
মলিবডেনাম (15 - 17%) হাইড্রোক্লোরিক অ্যাসিডের মতো অ্যাসিড হ্রাস করার জন্য প্লেটের প্রতিরোধকে বাড়িয়ে তোলে। এই অ্যাসিডগুলির সাথে জড়িত রাসায়নিক বিক্রিয়াগুলিতে, মলিবডেনাম পিটিং এবং ক্রেভিস জারা বাধা দেয়, প্লেটটি তার অখণ্ডতা বজায় রাখে তা নিশ্চিত করে।
তামা (1 - 2%) আরও জারা প্রতিরোধের উন্নতি করে, বিশেষত সালফিউরিক অ্যাসিড পরিবেশে। এটি রাসায়নিক প্রক্রিয়াগুলিতে অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ যেখানে সালফিউরিক অ্যাসিড একটি রিঅ্যাক্ট্যান্ট বা - পণ্য দ্বারা, কারণ এটি প্লেটটিকে অবক্ষয় প্রতিরোধে সহায়তা করে।
2। হটেলয় সি 2000 প্লেটের বেধ কীভাবে রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলিতে এর কার্যকারিতা প্রভাবিত করে?
তাড়াতাড়ি সি 2000 প্লেটের বেধ রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জামগুলিতে এর কার্য সম্পাদনে উল্লেখযোগ্য প্রভাব ফেলে। ঘন প্লেটগুলি বৃহত্তর কাঠামোগত শক্তি সরবরাহ করে, এগুলি উচ্চ - চাপ রাসায়নিক চুল্লিগুলির জন্য উপযুক্ত করে তোলে। তারা বিকৃতি বা ব্যর্থতা ছাড়াই রাসায়নিক বিক্রিয়াগুলির সময় উত্পন্ন অভ্যন্তরীণ চাপ সহ্য করতে পারে।
জারা প্রতিরোধের ক্ষেত্রে, ঘন প্লেটগুলি একটি বৃহত্তর উপাদান রিজার্ভ সরবরাহ করে। এমনকি সময়ের সাথে সাথে পৃষ্ঠের উপরে কিছু জারা দেখা দিলেও, বাকী বেধটি নিশ্চিত করে যে প্লেটটি সঠিকভাবে কাজ করতে থাকে, সরঞ্জামগুলির পরিষেবা জীবনকে প্রসারিত করে। এটি দীর্ঘ - টার্ম রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ ক্রিয়াকলাপগুলিতে বিশেষত গুরুত্বপূর্ণ যেখানে ক্ষয়কারী পদার্থের অবিচ্ছিন্ন এক্সপোজার অনিবার্য।
তবে আরও ঘন প্লেটের পাতলাগুলির তুলনায় তাপ স্থানান্তর দক্ষতা কম থাকতে পারে। রাসায়নিক সরঞ্জামগুলিতে যা দক্ষ তাপ বিনিময় প্রয়োজন, যেমন তাপ এক্সচেঞ্জারগুলির জন্য, পাতলা প্লেটগুলি প্রায়শই পছন্দ করা হয় কারণ তারা প্রক্রিয়া তরল এবং প্লেটের মধ্যে দ্রুত তাপ স্থানান্তরের অনুমতি দেয়।
পাতলা প্লেটগুলি আরও নমনীয় এবং জটিল আকারগুলিতে গঠনের পক্ষে সহজ, যা জটিল নকশাগুলি সহ উত্পাদন সরঞ্জামের জন্য উপকারী। তবে এগুলি নিম্ন কাঠামোগত শক্তির কারণে উচ্চ - চাপ অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য কম উপযুক্ত।
3। রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জাম উত্পাদন ক্ষেত্রে তাড়াতাড়ি সি 2000 প্লেটের জন্য সাধারণ বানোয়াট পদ্ধতিগুলি কী কী?
ওয়েল্ডিং হটেলয় সি 2000 প্লেটের জন্য একটি বহুল ব্যবহৃত বানোয়াট পদ্ধতি। গ্যাস - টুংস্টেন আর্ক ওয়েল্ডিং (জিটিএডাব্লু) এবং গ্যাস - ধাতব আর্ক ওয়েল্ডিং (জিএমএডাব্লু) সাধারণত নিযুক্ত করা হয়। ওয়েল্ডিংয়ের সময়, খাদটির জারা প্রতিরোধের বজায় রাখতে হ্যাসেলয় সি 2000 এর সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ ফিলার উপকরণগুলি ব্যবহার করা অপরিহার্য। ওয়েল্ড জয়েন্টে পোরোসিটি এবং ফাটলগুলির মতো ত্রুটিগুলি এড়াতে ওয়েল্ডিং প্যারামিটারগুলির কঠোর নিয়ন্ত্রণ যেমন বর্তমান এবং ield ালাই গ্যাস প্রবাহকে প্রয়োজনীয়।
বাঁকানো এবং ঘূর্ণায়মান সহ গঠনের প্রক্রিয়াগুলিও ব্যবহৃত হয়। হেসটেলয় সি 2000 প্লেটের ভাল নমনীয়তা রয়েছে, এটি বিভিন্ন কোণে বাঁকানো বা ট্যাঙ্ক এবং পাইপগুলি বানোয়াট করার জন্য নলাকার আকারে ঘূর্ণিত হতে দেয়। পাতলা প্লেটগুলির জন্য ঠান্ডা গঠন পছন্দ করা হয়, অন্যদিকে ক্র্যাকিংয়ের ঝুঁকি হ্রাস করতে ঘন প্লেটের জন্য গরম গঠন ব্যবহার করা যেতে পারে। অভ্যন্তরীণ চাপগুলি উপশম করতে এবং প্লেটের যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি পুনরুদ্ধার করতে গঠনের পরে মধ্যবর্তী অ্যানিলিংয়ের প্রয়োজন হতে পারে।
কাটিং আরেকটি গুরুত্বপূর্ণ বানোয়াট পদক্ষেপ। প্লাজমা কাটিয়া এবং লেজার কাটিয়া সাধারণত হটেলয় সি 2000 প্লেট কাঙ্ক্ষিত মাত্রায় কাটতে ব্যবহৃত হয়। এই পদ্ধতিগুলি ন্যূনতম তাপ - প্রভাবিত অঞ্চলগুলির সাথে সুনির্দিষ্ট কাট সরবরাহ করে, যা প্লেটের জারা প্রতিরোধের সংরক্ষণে সহায়তা করে।
মিলিং এবং ড্রিলিংয়ের মতো মেশিনিং প্রক্রিয়াগুলি সমাবেশের উদ্দেশ্যে প্লেটে গর্ত এবং খাঁজ তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়। কাজ কঠোরতা রোধ করতে এবং একটি মসৃণ পৃষ্ঠের সমাপ্তি নিশ্চিত করতে তীক্ষ্ণ সরঞ্জাম এবং উপযুক্ত কাটিয়া তরল ব্যবহার করা গুরুত্বপূর্ণ।
4। কোন নির্দিষ্ট রাসায়নিক প্রসেসিং অ্যাপ্লিকেশনগুলি হটেলয় সি 2000 প্লেটটি প্রায়শই ব্যবহার করা হয়?
হেসটেলয় সি 2000 প্লেট বিশেষ রাসায়নিকের উত্পাদনে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। সূক্ষ্ম রাসায়নিক এবং ফার্মাসিউটিক্যাল ইন্টারমিডিয়েটগুলির সংশ্লেষণে, যা প্রায়শই ক্ষয়কারী রিঅ্যাক্ট্যান্টস এবং কঠোর প্রতিক্রিয়া অবস্থার সাথে জড়িত থাকে, প্লেটের দুর্দান্ত জারা প্রতিরোধের পণ্যগুলির বিশুদ্ধতা এবং প্রক্রিয়াটির সুরক্ষা নিশ্চিত করে।
এটি সাধারণত সার উত্পাদনে নিযুক্ত করা হয়। সারের উত্পাদন সালফিউরিক অ্যাসিড এবং নাইট্রিক অ্যাসিডের মতো অ্যাসিডের ব্যবহার জড়িত। হেসটেলয় সি 2000 প্লেট এই অ্যাসিডগুলির ক্ষয়কারী প্রভাবগুলি সহ্য করতে পারে, এটি সারের গাছগুলিতে চুল্লি, স্টোরেজ ট্যাঙ্ক এবং পাইপলাইনগুলিতে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত করে তোলে।
পেট্রোকেমিক্যাল শিল্পে, হেসটেলয় সি 2000 প্লেট অপরিশোধিত তেল এবং প্রাকৃতিক গ্যাস প্রক্রিয়াজাতকরণের জন্য সরঞ্জামগুলিতে ব্যবহৃত হয়। এটি এই ফিডস্টকগুলিতে উপস্থিত যৌগিক এবং অন্যান্য ক্ষয়কারী পদার্থ সমন্বিত সালফার {{2} to থেকে ক্ষয়কে প্রতিহত করে, পাতন কলাম, তাপ এক্সচেঞ্জার এবং প্রতিক্রিয়া জাহাজগুলির নির্ভরযোগ্য অপারেশন নিশ্চিত করে।
অতিরিক্তভাবে, এটি ক্লোরিন এবং কস্টিক সোডা হিসাবে শিল্প রাসায়নিকগুলির উত্পাদনে প্রয়োগ খুঁজে পায়। এই রাসায়নিকগুলির আক্রমণাত্মক প্রকৃতির জন্য উচ্চ জারা প্রতিরোধের সাথে উপকরণগুলি থেকে তৈরি সরঞ্জামগুলির প্রয়োজন হয় এবং তাড়াতাড়ি সি 2000 প্লেট এই প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।
5 ... হটেলয় সি 2000 প্লেট কীভাবে অন্যান্য নিকেল - ভিত্তিক অ্যালো প্লেটগুলির সাথে রাসায়নিক প্রক্রিয়া সরঞ্জাম অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে তুলনা করে?
হস্তল্লয় সি 276 প্লেটের সাথে তুলনা করে, হস্তল্লয় সি 2000 প্লেট সালফিউরিক অ্যাসিডের জন্য আরও ভাল প্রতিরোধের প্রস্তাব দেয়। সালফিউরিক অ্যাসিডের সাথে জড়িত রাসায়নিক প্রক্রিয়াগুলিতে, হেসটেলয় সি 2000 উচ্চতর ঘনত্ব এবং তাপমাত্রায় এর জারা প্রতিরোধের বজায় রাখে, এটি আরও উপযুক্ত পছন্দ করে তোলে।
ইনকনেল 625 প্লেটের সাথে তুলনা করা হলে, হেসটেলয় সি 2000 এ অ্যাসিড হ্রাস করার ক্ষেত্রে উচ্চতর প্রতিরোধের রয়েছে। ইনকনেল 625 অক্সিডাইজিং পরিবেশে ভাল সম্পাদন করে তবে হাইড্রোক্লোরিক অ্যাসিডের মতো অ্যাসিড হ্রাস করার উপস্থিতিতে আরও দ্রুত ক্ষয় হতে পারে, যা অনেকগুলি রাসায়নিক প্রক্রিয়াতে সাধারণ।
হেসটেলয় সি 2000 প্লেটেরও অক্সিডাইজিং পরিবেশে হটেলয় বি 2 প্লেটের চেয়ে একটি সুবিধা রয়েছে। হেসটেলয় বি 2 অ্যাসিড হ্রাস করার জন্য অত্যন্ত প্রতিরোধী তবে জারণ প্রতিরোধের জন্য পর্যাপ্ত ক্রোমিয়ামের অভাব রয়েছে, এটি অক্সাইডাইজিং এজেন্টদের জড়িত প্রক্রিয়াগুলির জন্য কম উপযুক্ত করে তোলে।
ব্যয়ের ক্ষেত্রে, হেসটেলয় সি 2000 প্লেট অন্য কয়েকটি নিকেল - ভিত্তিক অ্যালোগুলির চেয়ে বেশি ব্যয়বহুল হতে পারে, তবে এর উচ্চতর পারফরম্যান্স এবং দীর্ঘতর পরিষেবা জীবন প্রায়শই দীর্ঘমেয়াদে কম সামগ্রিক ব্যয় হতে পারে, বিশেষত অত্যন্ত ক্ষয়কারী রাসায়নিক প্রক্রিয়াজাতকরণ অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে।
